第1184章 一个新的时代,即将来临 (2 / 9)

        但asml已经达到5纳米,3纳米,甚至往2纳米方向进军。

        这是几十倍的差距。

        同样也是几代水平的差距。

        真按这样的差距进行追赶,恐怕得100年。

        幸好。

        早在之前陈宇就从台积电挖脚了林本坚。

        在他的湿式光刻理论的帮助之下,全球第一台浸润式光刻机就此诞生。

        “陈总,这台光刻机还不是我们最为先进的,在湿式光刻理论的支持之下,我们的制程在未来还可以大幅度的进行提高。目前全球最高制程水平是65纳米,这已经很难再进步了。但我们却才刚刚开始,未来我们将进入45纳米,28纳米,20纳米,10纳米,甚至是7纳米之例……”

        说到技术,林本坚却是滔滔不绝。

        对于他来说,能将自己的理论得已实现,这是最为激动人心的事。

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