第1184章 一个新的时代,即将来临 (2 / 9)
但asml已经达到5纳米,3纳米,甚至往2纳米方向进军。
这是几十倍的差距。
同样也是几代水平的差距。
真按这样的差距进行追赶,恐怕得100年。
幸好。
早在之前陈宇就从台积电挖脚了林本坚。
在他的湿式光刻理论的帮助之下,全球第一台浸润式光刻机就此诞生。
“陈总,这台光刻机还不是我们最为先进的,在湿式光刻理论的支持之下,我们的制程在未来还可以大幅度的进行提高。目前全球最高制程水平是65纳米,这已经很难再进步了。但我们却才刚刚开始,未来我们将进入45纳米,28纳米,20纳米,10纳米,甚至是7纳米之例……”
说到技术,林本坚却是滔滔不绝。
对于他来说,能将自己的理论得已实现,这是最为激动人心的事。
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