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而就在前几个月的时候，amL推出了双工件台光刻机。这种设备可以在曝光一片晶圆的同时对下一片晶圆进行检测和校准，实现了生产的连续性，极大地提高了生产效率。
不过，双工件台光刻机也只仅仅是让amL成为了“光刻列强”之一，只是一个“门票”性质的产品。
双工件台的效率尽管比起传统的设备高了很多，但技术门槛并不高。
对于2002年初，还是光刻机巨头的泥康和家能而言，跟随难度并不大。
&想成为市场霸主，就必须在技术上领先老牌厂商。
而这个机会，很快就会来了。
现在，业内光刻机的光源所使用的紫外线打的波长均为193nm的DUV。业内普遍认为，谁能率先把波长降低，谁就能光刻机的市场上占据领先。
而aml就是在2002年7月份左右，遇到了“世外高人”林间——半导体技术专家。
也就是这位大佬，帮助amL，直接颠覆了家能、泥康的“干式光刻机”堡垒，发明出了“浸润式光刻机”。
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不过，双工件台光刻机也只仅仅是让amL成为了“光刻列强”之一，只是一个“门票”性质的产品。
双工件台的效率尽管比起传统的设备高了很多，但技术门槛并不高。
对于2002年初，还是光刻机巨头的泥康和家能而言，跟随难度并不大。
&想成为市场霸主，就必须在技术上领先老牌厂商。
而这个机会，很快就会来了。
现在，业内光刻机的光源所使用的紫外线打的波长均为193nm的DUV。业内普遍认为，谁能率先把波长降低，谁就能光刻机的市场上占据领先。
而aml就是在2002年7月份左右，遇到了“世外高人”林间——半导体技术专家。
也就是这位大佬，帮助amL，直接颠覆了家能、泥康的“干式光刻机”堡垒，发明出了“浸润式光刻机”。
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